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スプレー浄化中和システム
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スプレー浄化中和システム

Jinding は産業用ガスプラント向けにアセチレン精製システムを供給しており、プロセス能力、ガス条件、下流の要件に応じて装置を構成できます。当社のスプレー精製中和システムは、低温・低圧で作動し、各塔内で液を循環させ、自動液補充・残液排出機能を備えています。

スプレー精製中和システムは、さらなる保管または圧縮の前に粗アセチレンを洗浄するために、アセチレン発生器の下流に設置されます。このプロセスでは、一次精製媒体として濃硫酸を使用する代わりに、2 つの洗浄段階で次亜塩素酸ナトリウム溶液を使用し、最終の中和に水酸化ナトリウム溶液を使用します。この構成により、ガス精製プロセスを比較的低い温度と圧力に保ちながら、さまざまな不純物に対して個別の処理段階が提供されます。精製後、処理されたアセチレンは中和塔を出て、ガスホルダーまたはアセチレン圧縮システムに送られます。

Spray Purification Neutralization System


アセチレンガス精製プロセス

粗アセチレンは第一洗浄塔に入り、低濃度の次亜塩素酸ナトリウム溶液と接触します。この段階では、アセチレン生成プロセスから持ち込まれた不純物の除去が始まります。

その後、ガスは第 2 洗浄塔に移動し、高濃度の次亜塩素酸ナトリウム溶液によってさらに精製されます。ホスフィンと硫化水素は、次亜塩素酸ナトリウムの洗浄段階で対象となる不純物の中に含まれます。

次亜塩素酸塩処理後、アセチレンは中和塔に入ります。ここでは水酸化ナトリウム溶液を循環させて酸ミストを除去し、ガス流中に残っている酸性成分を中和します。

処理が完了すると、精製されたアセチレンは中和塔の塔頂から出て、ガスホルダーまたは下流の圧縮プロセスに進みます。

液体の準備と循環の手配もプロセス設計の一部です。新しい次亜塩素酸ナトリウム溶液は、まず二次洗浄塔に供給されます。運転中に溶液の濃度が低下すると、溶液は一次洗浄塔で使用するために移送されます。各塔では循環ポンプを使用してガスと精製液の接触を維持します。


精製システムがさまざまな不純物を処理する方法

3 つのタワーの配置により、各処理段階に明確な役割が与えられます。

プロセス段階

精製媒体

主な機能

一次洗浄塔

低濃度次亜塩素酸ナトリウム溶液

粗アセチレンの初期スクラビング

二次洗浄塔

高濃度次亜塩素酸ナトリウム溶液

ホスフィンや硫化水素などの不純物をさらに除去

中和塔

水酸化ナトリウム溶液

酸性ミストの除去・中和

出口

精製アセチレンガス

ガスホルダーに移送または圧縮

この段階的なアプローチにより、精製液もより有効に活用できます。新たに調製した次亜塩素酸水溶液をそのまま一次工程に送り、濃度が下がって廃棄するのではなく、まず二次洗浄工程に導入し、濃度が低下するにつれて一次工程で使用します。


アセチレン連続製造のメリット

低温低圧運転

精製プロセスは、比較的穏やかな温度と圧力条件下で行われます。これにより精製部の作業負担を軽減し、アセチレンガスのより安全な取り扱いをサポートします。

液体の自動管理

スプレー浄化中和システムを搭載することで、浄化液の連続自動補充と残液の自動排出が可能です。これにより、頻繁に手動で介入する必要性が減り、装置は連続生産ラインに適したものになります。

使用後の精製液濃度の低下

使用後、次亜塩素酸ナトリウム溶液は非常に低濃度になり、pH は中性条件に近づきます。工場のプロセスおよび環境管理要件に応じて、液体は再利用されるか、工場の確立された処理システムの一部として処理される場合があります。

精製コストの削減

次亜塩素酸ナトリウムは、従来の濃硫酸精製媒体に比べて比較的安価です。したがって、連続的に稼働するプラントの場合、精製化学物質の選択は、稼働コストと液体管理要件に直接影響を与える可能性があります。

下流圧縮用のクリーンガス

中和段階では酸ミストを除去し、酸性またはアルカリ性成分が下流のガスシステムに持ち込まれるのを防ぎます。コンプレッサーに入るよりクリーンなアセチレンは、コンプレッサーのコンポーネントと耐用年数に対する腐食性または反応性汚染物質の影響を軽減するのに役立ちます。


このシステムが適している人

スプレー精製中和システムは、主に炭化カルシウムからアセチレンが生成され、保管、充填、または圧縮の前に精製する必要があるプロジェクトに関連します。典型的な調達状況には次のようなものがあります。

·アセチレン製造プラントでは、発生器の後に専用の精製セクションが必要です。

·商業供給用にアセチレンを生産する産業ガスメーカー。

·炭化カルシウムアセチレンプラントのガス精製プロセスをアップグレードまたは拡張しています。

·精製ガスがその後圧縮または保管されるアセチレンの充填および供給施設。

·下流にアセチレンコンプレッサーを備えたプラント。圧縮前に酸ミストやその他の汚染物質を除去することが重要です。

· 硫酸精製を検討している既存のプラント、特に次亜塩素酸ナトリウムベースの精製プロセスが代替策として検討されている場合。

Spray Purification Neutralization System


よくある質問

1. スプレー精製中和システムは粗アセチレンからどのような不純物を除去できますか?

次亜塩素酸ナトリウム洗浄ステージは、ホスフィンや硫化水素などの不純物を除去するために使用されます。次の水酸化ナトリウム中和段階では、ガス中に残留する酸ミストやその他の酸性成分が処理されます。

2. 次亜塩素酸ナトリウム洗浄塔を 2 台使用しているのはなぜですか?

2 段階の配置により、精製プロセスの異なる時点で異なる溶液濃度を使用できます。二次洗浄塔では高濃度の溶液が使用され、その後一次洗浄塔では低濃度の溶液が使用されます。

3. なぜ新鮮な次亜塩素酸ナトリウム溶液が最初に第 2 塔に供給されるのですか?

二次塔の精製には、より高濃度の溶液が必要です。運転中に溶液濃度が低下すると、それを次の使用のために一次塔に移すことができ、精製液をより有効に利用できます。

4. 中和塔の役割は何ですか?

中和塔は、アセチレンガスが精製システムから出る前に、水酸化ナトリウム溶液を使用して酸ミストを除去し、酸性成分を中和します。

5. 浄化システムは継続的に作動できますか?

はい。精製液の自動補充、残液の自動排出機能を搭載し、アセチレンの連続製造をサポートし、人手による液管理作業を軽減します。

6. このシステムはアセチレンコンプレッサーにどのようなメリットをもたらしますか?

中和段階は、酸性またはアルカリ性成分が下流の圧縮セクションに入るのを防ぐのに役立ちます。よりクリーンなガス条件により、コンプレッサーコンポーネントへの汚染や腐食の影響を軽減できます。

 

 

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